4.3. ОЧИСТКА АППАРАТУРЫ (часть 1)
Те элементы конструкции, которые трудно или невозможно отключить от вакуумной линии, можно очистить от поверхно¬стной воды максимальной откачкой с последующим заполне¬нием парами триметилхлорсилана (см. рис. 3.11). При реакции силана с водой образуются триметилсиланол и соляная кислота, а гидроксильные группы на поверхности стекла превращаются в MC3S1O-группы, покрывая поверхность слоем метильных групп, т. е. парафиновым воском Образующаяся соляная кислота должна быть тщательно удалена. Поверхность стекла после такой обработки оказывается покрытой слоем "парафи¬на", который можно удалить либо высокоагрессивными реа¬гентами (например, КОН в водном растворе этанола), либо циклом обжига стекла (см. разд. 13.1.2). Адсорбированная вода сравнительно легко удаляется откачкой.