4.3. ОЧИСТКА АППАРАТУРЫ (часть 1)

Хотя основная и вспомогательная стеклянная аппаратура вакуумных линий всегда подвергается тщательной очистке перед работой, она тем не менее, как и любая другая аппаратура, подвергается неизбежному загрязнению, наиболее простой и распространенной причиной чего является, безусловно, вода. Роль воды легко оценить следующим простым расчетом: даже мономолекулярный слой воды на стенках сосуда емкостью 50 мл соответствует после заполнения сосуда раствором содержа¬нию воды в этом растворе около 10 5 моль/л. Между тем в обычных условиях на поверхности необработанного стекла всегда адсорбируется значительно более толстый слой.
Что, собственно, можно сделать с этим явлением? Вода с поверхности стекла может быть удалена физическими или химическими методами. Физические методы включают про¬мывку поверхности и удаление воды нагревом. Промывка осуществляется непрерывной перегонкой растворителя из ре¬зервуара с осушающим агентом через осушаемую аппаратуру. При возращении дистиллята в резервуар вода (удаленная со стенок в результате промывки) связывается с осушающим агентом. Мы не будем рассматривать этот метод, поскольку чаще всего он применяется в обычной, невакуумной химической технике. Хотелось бы, однако, отметить, что даже полярные растворители типа кетонов не могут обеспечить полное удаление адсорбционного слоя воды.

Страницы: 1 2 3